人工晶體學(xué)報

所屬分類：經(jīng)濟期刊; 時間：2016-07-11 15:16

《人工晶體學(xué)報》

期刊級別：CSCD核心期刊北大核心期刊統(tǒng)計源期刊

國內(nèi)統(tǒng)一刊號：11-2637/O7

國際標(biāo)準(zhǔn)刊號：1000-985X

周期：月刊

主辦單位：中材人工晶體研究院

主管單位：中國建材工業(yè)協(xié)會

發(fā)表支持服務(wù)相似期刊推薦

高端學(xué)術(shù)服務(wù)項目

　　人工晶體學(xué)報雜志社簡介

　　《人工晶體學(xué)報》(月刊)創(chuàng)刊于1972年，由中材人工晶體研究院主辦。

　　《人工晶體學(xué)報》(本刊刊登材料科學(xué)與工程技術(shù)方面，涵蓋晶體材料：半導(dǎo)體材料、光電子材料、壓電晶體材料、納米材料、薄膜材料、超硬材料和高技術(shù)陶瓷，具有創(chuàng)新性、高水平、有重要意義的原始性研究學(xué)術(shù)論文以及反映學(xué)科最新發(fā)展?fàn)顩r的文獻綜述等中英文稿件。獲獎情況：1997年獲國家科技優(yōu)秀期刊;獲部級優(yōu)秀科技期刊獎;中國期刊方陣“雙效”期刊;1987年獲優(yōu)秀編輯二等獎。

　　人工晶體學(xué)報雜志欄目設(shè)置

　　學(xué)術(shù)論文、簡報

　　人工晶體學(xué)報雜志榮譽

　　CA 化學(xué)文摘(美)

　　CSCD 中國科學(xué)引文數(shù)據(jù)庫來源期刊(含擴展版)

　　EI 工程索引(美)

　　JST 日本科學(xué)技術(shù)振興機構(gòu)數(shù)據(jù)庫(日)

　　萬方收錄(中)

　　上海圖書館館藏

　　北大核心期刊(中國人文社會科學(xué)核心期刊)

　　國家圖書館館藏

　　文摘與引文數(shù)據(jù)庫

　　知網(wǎng)收錄(中)

　　統(tǒng)計源核心期刊(中國科技論文核心期刊)

　　維普收錄(中)

　　Caj-cd規(guī)范獲獎期刊

　　中國期刊方陣雙效期刊

　　中科雙效期刊

　　人工晶體學(xué)報雜志最新目錄

　　低溫GaN形核層的形核速率對GaN外延薄膜晶體質(zhì)量的影響廖建華;尚林;賈偉;余春燕;李天保;許并社

　　Na+摻雜KLaF4∶Er3+/Yb3+納米晶上轉(zhuǎn)換發(fā)光性能的研究周海芳;王謝春;鄭巧;程樹英;賴云鋒

　　以硅片線鋸屑和石英為原料合成氮氧化硅粉體研究李兵;尹傳強;魏秀琴;周浪

　　氣體進出方式對MPCVD大面積金剛石膜均勻性的影響鐘強;黑鴻君;李曉靜;張阿莉;申艷艷;劉小萍;于盛旺

　　多晶硅鑄錠內(nèi)嵌雜質(zhì)引發(fā)熱應(yīng)力的數(shù)值分析劉堯;何力軍;狄紅祥;高忙忙;李海波

　　GaN襯底摻雜模式對ZnO納米棒光學(xué)性質(zhì)的影響戶芳;余春燕;梅伏洪;張華;許并社

　　雙靶反應(yīng)共濺射制備WC薄膜及其電催化性能李春梅;唐振方

　　多級孔LTA型沸石分子篩的合成、表征及其性能研究(英文) 亢玉紅;馬靜紅;薛招騰;李健;馬向榮

　　氟金云母玻璃陶瓷切削加工中刀具角度對刀具磨損的影響陳斌;于愛兵;王燕琳;吳劍釗;牛威楊

　　水分散性N摻雜TiO2的制備及其光催化性能研究曹永倩;樊彩梅;王雅文;王韻芳;張小超

　　基于旋磁材料一維光子晶體單向傳輸徐青松;方云團;周駿

　　人工晶體學(xué)報雜志推薦閱讀

　　《液晶與顯示》本刊是中國最早創(chuàng)辦的液晶學(xué)科專業(yè)期刊，也是中國惟一的液晶學(xué)科和顯示領(lǐng)域中綜合性學(xué)術(shù)期刊。它由中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所和中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會液晶專業(yè)分會主辦，科學(xué)出版社出版。

　　人工晶體學(xué)報雜志社征稿要求

　　1、文題、作者姓名(一般不超過6人)、作者單位及所在城市和郵編、摘要、關(guān)鍵詞均需中英文對照。論文如果獲得有關(guān)研究基金或課題資助，需提供基金名稱及編號，并提供第一作者的姓名、出生年、性別、職稱、學(xué)位及E-mail地址;以及聯(lián)系人姓名、職稱、電話、傳真及E-mail地址。

　　2、論文題目應(yīng)簡潔、準(zhǔn)確，不宜使用縮略詞;摘要(中文)字?jǐn)?shù)一般在200字左右，英文摘要字?jǐn)?shù)可稍多，不一定與中文部分完全對應(yīng)。摘要內(nèi)容應(yīng)包括論文的研究目的、方法及結(jié)果等;關(guān)鍵詞的個數(shù)為3～8個。文章字?jǐn)?shù)3000～5000字，文中量、單位及符號的使用應(yīng)符合國際標(biāo)準(zhǔn)和國家標(biāo)準(zhǔn)。注意容易混淆的外文字母的文種、大小寫、正斜體及上下角標(biāo)的正確書寫。

　　3、圖(含照片)、表和公式應(yīng)通篇分別編號，圖題、表題應(yīng)有中英文對照。表格應(yīng)采用三線表形式，內(nèi)容以英文表述。曲線圖應(yīng)直觀、簡潔，圖中文字用英文、量的名稱及符號、坐標(biāo)要準(zhǔn)確、清晰(物理量符號用斜體，單位用正體)并與文中一致，曲線圖的尺寸(高*寬)以100×130mm為宜，為方便修改，文中曲線圖應(yīng)采用計算機繪圖，最好用Origin格式插入，字體采用Arial，4號字(24磅)，激光打印機打印。照片要求黑白分明，層次清晰。

　　4、參考文獻書寫格式請參考以下《人工晶體學(xué)報》參考文獻書寫規(guī)范。稿件具體格式、體例請參考近期出版的《人工晶體學(xué)報》中文版(點擊可下載范例)。