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曲面微光學(xué)結(jié)構(gòu)納米壓印制備技術(shù)研究

所屬分類:電子論文 閱讀次 時(shí)間:2020-05-19 11:01

本文摘要:【摘要】曲面光柵受自身的性質(zhì)影響,主要體現(xiàn)為透鏡與平面光柵器件,通過曲面光柵的取代,可以有效的降低透鏡的數(shù)量,實(shí)現(xiàn)對光路的簡化,并提升器件的集成度,在保證系統(tǒng)穩(wěn)定性的基礎(chǔ)上降低成本,滿足當(dāng)前的需求。 【關(guān)鍵詞】曲面光柵;納米壓印制備;濕法腐蝕

  【摘要】曲面光柵受自身的性質(zhì)影響,主要體現(xiàn)為透鏡與平面光柵器件,通過曲面光柵的取代,可以有效的降低透鏡的數(shù)量,實(shí)現(xiàn)對光路的簡化,并提升器件的集成度,在保證系統(tǒng)穩(wěn)定性的基礎(chǔ)上降低成本,滿足當(dāng)前的需求。

  【關(guān)鍵詞】曲面光柵;納米壓印制備;濕法腐蝕

自動化與儀表

  隨著時(shí)代不斷發(fā)展,曲面微光學(xué)結(jié)構(gòu)納米壓印制備技術(shù)不斷創(chuàng)新,并促使其技術(shù)廣泛應(yīng)用,如在光通信領(lǐng)域、計(jì)量領(lǐng)域、光譜學(xué)領(lǐng)域、信息處理領(lǐng)域等,提升光學(xué)器件的整體集成度,保證其具有較強(qiáng)的穩(wěn)定性,降低成本的投入,靈活應(yīng)用技術(shù)優(yōu)勢,滿足時(shí)代發(fā)展的需求。

  納米材料論文投稿刊物:《自動化與儀表》(月刊)1981年創(chuàng)刊,是以自動化領(lǐng)域和儀器儀表行業(yè)為兩大報(bào)道主線的技術(shù)類科技期刊,集學(xué)術(shù)、技術(shù)和應(yīng)用于一體,注重先進(jìn)性、指導(dǎo)性、實(shí)用性、可讀性。

  1曲面微光學(xué)結(jié)構(gòu)微納制備分析

  1.1光刻工藝流程中掩膜設(shè)計(jì)

  實(shí)際上,當(dāng)前的硅基微光學(xué)結(jié)構(gòu)的微納制備主要目的是進(jìn)行曲面衍射光柵的結(jié)構(gòu)制備,以滿足當(dāng)前的實(shí)際需求。工作人員應(yīng)首先明確光刻工藝流程,光刻工藝是半導(dǎo)體器件制作過程中最為常見的工藝,屬于核心技術(shù),實(shí)質(zhì)是將掩模板MASK上的其圖形轉(zhuǎn)移,將其轉(zhuǎn)移到襯底表面的光刻膠上,為后續(xù)的制作奠定良好的基礎(chǔ)。

  通常情況下,其光刻工藝流程包含的內(nèi)容較多,如預(yù)處理、涂膠、前烘、PEB、顯影及硬烤等,保證流程的完善性,光刻工藝直接影響光柵的性能與質(zhì)量,需要工作人員合理分析其影響因素,如潔凈度,保證環(huán)境的潔凈程度符合要求,降低塵埃產(chǎn)生的影響,例如塵埃顆粒將造成光柵的有效面積減少,甚至破壞掩膜板,造成嚴(yán)重的畸形,產(chǎn)生不良的影響。與此同時(shí),還應(yīng)合理控制其溫度與濕度,營造高質(zhì)量環(huán)境,滿足當(dāng)前的需求,除了環(huán)境及外觀影響,更應(yīng)側(cè)重在光刻后圖形的形貌尺寸對曲面光學(xué)元器件的影響。合理進(jìn)行掩膜板設(shè)計(jì)加工,靈活應(yīng)用當(dāng)前軟件的優(yōu)勢,進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),并進(jìn)行掩膜層劃分,提升其整體的設(shè)計(jì)功能。

  1.2掩膜層制備

  在進(jìn)行制備過程中,應(yīng)積極進(jìn)行材料選擇,以其腐蝕性為主,保證材料不受各異性腐蝕液影響或者影響較小,選擇該類材料作為掩膜材料,靈活利用材料的性能優(yōu)勢阻擋對圖形的腐蝕,如良好的厚度、良好的密度等,筆者在進(jìn)行實(shí)驗(yàn)選擇過程中,主要選擇二氧化硅材料,并可以實(shí)現(xiàn)有效的掩膜層剝離。通過熱生長二氧化硅法將硅片放在高溫石英中進(jìn)行加熱,并選擇合理的氧化劑促使其進(jìn)行反應(yīng),最終形成二氧化硅薄膜,以滿足制備需求。

  干氧法生長也是當(dāng)前較為常見的方法,靈活利用其制作可以促使產(chǎn)生的薄膜性質(zhì)提升,尤其是致密性更加,并以此為基礎(chǔ)提升其重復(fù)性與均勻性,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的制備。濺射法也是當(dāng)前較為常見的技術(shù),通過先進(jìn)的技術(shù)營造真空環(huán)境,通過荷能粒子對靶材進(jìn)行轟擊,促使其粒子實(shí)現(xiàn)沉積,逐漸形成掩膜層。進(jìn)行合理的基片表面預(yù)處理,將當(dāng)前的基片進(jìn)行浸泡,去除存在的有機(jī)物后進(jìn)行沖洗,消除殘留的水分,進(jìn)行光刻膠涂覆。光刻膠的主要作用是防止腐蝕,通常情況喜愛存在不同的種類,需要合理進(jìn)行選擇,筆者在進(jìn)行制作過程中分析光刻膠的基本原料,主要有光敏劑與可溶酚醛清漆樹脂,明確其性質(zhì),制作出良好的產(chǎn)品。

  1.3濕法腐蝕工藝與干法腐蝕工藝

  濕法腐蝕工藝受腐蝕液自身的性質(zhì)影響,對不同的晶面產(chǎn)生的腐蝕效果不同,并且存在較為明顯的差異。例如,以實(shí)際案例為例,現(xiàn)有的腐蝕液主要有兩種,一種屬于有機(jī)腐蝕液,如EPW(乙二胺、鄰苯二酚和水)和聯(lián)胺,另一種屬于無機(jī)腐蝕液,如堿性腐蝕液,如KOH、NaOH、NH4OH等,其產(chǎn)生的效果相類似。

  需要綜合考慮其因素,如光刻參數(shù)、掩層膜、厚度、腐蝕液以及其腐蝕條件等,明確其對光柵制備產(chǎn)生的影響,以滿足設(shè)計(jì)需求,例如,微納級別的圖形使用濕法可控。由此可指導(dǎo)壓印模板的流程,首先,進(jìn)行掩膜層對比,其次進(jìn)行腐蝕液對比實(shí)驗(yàn),最后進(jìn)行掩膜層厚度對比,以此為基礎(chǔ),進(jìn)行腐蝕條件控制。在應(yīng)用過程中,濕法腐蝕優(yōu)勢體現(xiàn)在高選擇比方面,并且設(shè)備具有較強(qiáng)的經(jīng)濟(jì)性,可以實(shí)現(xiàn)批量處理,具有高產(chǎn)能特點(diǎn),但其存在明顯的化學(xué)危害性,液體直接暴露存在爆炸的潛在性,而干法腐蝕更具有優(yōu)勢,其具有較強(qiáng)的經(jīng)濟(jì)性,并且其腐蝕精度較高,具有較強(qiáng)的均勻性,可以實(shí)現(xiàn)自動化操作,避免使用化學(xué)試劑,其缺點(diǎn)為選擇比差,對光刻膠要求較高,在曲面微光中通常選擇干法腐蝕較多。

  2微納曲面壓印分析

  2.1曲面光柵

  實(shí)際上,光柵是光譜測量的核心器件,并在發(fā)展過程中,其技術(shù)不斷創(chuàng)新,以滿足當(dāng)前的需求。隨著納米技術(shù)的創(chuàng)新應(yīng)用,現(xiàn)階段曲面光柵逐漸出現(xiàn),其性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過傳統(tǒng)光柵的性能質(zhì)量,并被人們廣泛的應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)各個(gè)領(lǐng)域的創(chuàng)新。從本質(zhì)上分析,曲面光柵存在較強(qiáng)的優(yōu)勢,尤其是與傳統(tǒng)光柵相對比,其優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾方面:

  第一,曲面光柵的有效載荷較高,其主要的原因在于自身由透鏡與平面光柵集成,通過合理的光路組合促使其降低透鏡數(shù)量,實(shí)現(xiàn)光路的優(yōu)化,并提升整體的集成度,利用載荷優(yōu)勢實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新,滿足當(dāng)前的需求。與此同時(shí),其成本較低,合理進(jìn)行應(yīng)用有助于整體的穩(wěn)定性提升,發(fā)揮出曲面光柵的優(yōu)勢。

  第二,從整體上提升光學(xué)系統(tǒng)的精確性,在傳統(tǒng)的平面光柵光譜儀中,通常情況下其光路需要引入兩面反光鏡與一片平面光柵,但由于兩面鏡片的存在導(dǎo)致其出現(xiàn)散光,并形成一定的噪聲,降低系統(tǒng)的整體信噪比,光學(xué)元件數(shù)量增多,降低整體的性能,像素較差。

  在進(jìn)行曲面光柵制備過程中,工作人員應(yīng)不斷進(jìn)行創(chuàng)新,優(yōu)化整體工藝水平,靈活應(yīng)用現(xiàn)有的技術(shù)進(jìn)行制備,提升其整體性能。例如,當(dāng)前常見的方式較多,不同的方法應(yīng)用理念不同,可以有效的實(shí)現(xiàn)處理,并獲得精細(xì)的產(chǎn)品。與此同時(shí),應(yīng)保證其技術(shù)具有較強(qiáng)的經(jīng)濟(jì)性,可以實(shí)現(xiàn)便捷的處理,為我國的光柵曲面制備技術(shù)發(fā)展奠定良好的基礎(chǔ)。

  以實(shí)際為例,現(xiàn)階段的紫外納米壓印技術(shù)有效的實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)新,促使熱納米壓印技術(shù)克服了原有的硬質(zhì)印摸缺點(diǎn),提升自身技術(shù)的延展性,有效進(jìn)行曲面貼合,為曲面光柵的發(fā)展奠定良好的基礎(chǔ),并擴(kuò)展其發(fā)展方向,逐漸向大規(guī)模、大產(chǎn)量、低成本以及高精度方向發(fā)展,滿足當(dāng)前的需求[3]。曲面微納壓印的制備技術(shù)與傳統(tǒng)壓印技術(shù)的區(qū)別在于穩(wěn)定性,該技術(shù)穩(wěn)定性較高,其性能較強(qiáng)。

  2.2柔性納米壓印技術(shù)

  柔性納米壓印技術(shù)是當(dāng)前一種先進(jìn)的技術(shù),屬于全新的納米圖形復(fù)制方法,具有較高的分辨率,并且成本較低,在發(fā)展過程中具有廣闊的前景,F(xiàn)有的納米壓印技術(shù)主要包括微接觸壓印、熱壓印以及紫外壓印,被廣泛的應(yīng)用,其在應(yīng)用過程中,應(yīng)用原理較為獨(dú)特,主要是采用透明軟質(zhì)微結(jié)構(gòu)壓印印模為主,靈活利用其自身的彈性進(jìn)行應(yīng)用,促使其與曲面基底相契合,提升整體曲面微結(jié)構(gòu)的性能,保證其具有良好的便捷性、高效性以及經(jīng)濟(jì)性,實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新應(yīng)用。與此同時(shí),在進(jìn)行壓印過程中,其壓力分布比較均勻,從中心逐漸擴(kuò)散至四周,消除空氣,提升整體效果。

  3結(jié)論

  綜上所述,在當(dāng)前的時(shí)代背景下,光柵制備技術(shù)與理念逐漸創(chuàng)新,人們逐漸研發(fā)全新的技術(shù),實(shí)現(xiàn)先進(jìn)化發(fā)展,促使源于硅的各向異性腐蝕的光柵實(shí)現(xiàn)精細(xì)化,體現(xiàn)出便捷、高效、經(jīng)濟(jì)以及高質(zhì)性能,滿足新時(shí)代發(fā)展需求。工作人員還應(yīng)創(chuàng)新理念,綜合進(jìn)行分析,考慮其掩膜層、腐蝕液以及腐蝕參數(shù),建立最優(yōu)的方案,提升光柵性能。

  參考文獻(xiàn):

  [1]胡克想,王陽培華,王慶康.基于紫外納米壓印光刻的氟化混合物模板制備[J].飛控與探測,2019,2(02):54-58.

  [2]鄭永廣,張然,褚金奎.添加劑對納米壓印模板光柵結(jié)構(gòu)填充效果的改善作用[J].光子學(xué)報(bào),2018,47(09):114-120.

  [3]汪文峰,劉志龍,李豐甜.面向納米壓印的大行程二維精密定位平臺的設(shè)計(jì)[J].自動化與儀表,2018,33(07):67-70+89.

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